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嶺東科技大學 財經法律研究所 陳介山所指導 陳應交的 違反廢棄物清理法行為主體法律責任之研究 （2021），提出環保署申報營業量關鍵因素是什麼，來自於連帶責任、一行為不二罰、廢棄物清理、狀態責任、行為責任、環保爭議處理。
而第二篇論文中原大學 環境工程學系 王雅玢、游勝傑所指導 高子珺的 半導體及光電業揮發性有機化合物排放之研究 （2021），提出因為有 揮發性有機物、半導體、光電業、排放係數的重點而找出了 環保署申報營業量的解答。
違反廢棄物清理法行為主體法律責任之研究
為了解決環保署申報營業量 的問題，作者陳應交 這樣論述：
首先，從食品安全問題、生態問題、政治問題和環境問題，通過從各個層面深入分析《廢棄物清理法》的內容和實施過程及效果，本研究期望結合環境學、經濟學和法律學的範圍，增加強化我國環境保護之法律法規、法律常識和環境教育之有效性，使全世界所有公民和人類擁有一個清潔、安全、衛生的生活環境和活動空間，藉此得以繼續人類的生存和發展，尤其經濟成長與工業的發達造成廢棄物的產生是必然的製造過程之一環，企業主如何在公司治理要求下，遵守廢棄物清理法所規定義務，以免除法律上所負之責任，是目前每位企業主極為重要的企業社會責任（Corporate Social Responsibility，簡稱CSR）精神 ，現行《廢棄物清
理法》就廢棄物之清理，查立法有第11條：「一般廢棄物清理主體之規定，有關執行機關、管理機構與私人土地或建築物該所有人、管理人或使用人各自清理區域之責任」，第14條﹕「一般廢棄物應由執行機關負責清除、處理責任」，第15條﹕「物品或包裝與容器之製造、輸入之業者或原料、輸入或製造之業者與販賣業者間應負回收清除處理之連帶責任」，第16條﹕「應負回收、清除、處理之「責任業者」 應依政府公告之費率繳納回收、清除、處理費用以做為中央主管機關統籌分配使用之資源回收基金的管理制度」，第30條﹕「事業廢棄物清理委託人與受委託人間負連帶清理責任及環境改善責任」與第71條﹕「廢棄物非法棄置得由管理機關、執行機關命其限
期清除處理，由其委託人、受委託人與管理人、使用人、所有人負第二次連帶清除與改善環境之責任，逾期不為清除處理管理機關與執行機關得不經土地所有人、管理人或使用人同意，強制進入公私場所進行有關採樣、檢測、清除或處理等相關措施，由政府代為清除其清除處理費用，執行機關有權行使求償權，並於屆期不清償時移送行政執行機關強制執行（廢棄物清理法第65條參照）」，重視行為責任之分辨、事業委託與受託者間之連帶責任與刑法及行政罰法之規範、闡述連帶責任範圍及所涉行為責任之管理理論、經濟法律學說、違法狀態及實務見解分析，並援引法院裁判進行個案分析，期盼透過本研究研擬妥適的立法面與執行面，改善人類生活環境以及精進廢棄物管理
制度，以達到減少廢棄物之產生與生態衛生安全平衡發展之成效，並強調生態環境、資源回收與零廢棄物之理念，以提升全民綠能觀念並適切研討出合乎民情、法理制度與良善管理之政策，強調企業社會責任之四大責任 一經濟責任、二法律責任、三倫理責任、四自由裁量責任之理論，融入國際碳權及碳稅機制應變處置方針，最終提出廢棄物清理法、環境保護專責及技術人員訓練管理辦法修正建議並研擬環保爭議處理法草案作為本研究之建議與結論。
半導體及光電業揮發性有機化合物排放之研究
為了解決環保署申報營業量 的問題，作者高子珺 這樣論述：
半導體及光電業為我國重要產業之一，於環保署統計資料中，2019年半導體產業及光電產業之揮發性有機物污染申報量分別為33670.62公噸及27651.71公噸，因此本研究針對半導體及光電業揮發性有機物的定檢報告進行分析，利用檢測資料及許可資料綜整揮發性有機物排放濃度、排放量、相關防制設備、並計算其排放係數。研究結果顯示，半導體產業之揮發性有機物排放濃度範圍為1~147ppm，約91.7%的排放濃度低於22ppm，濃度大於22ppm的製程出現於二極體製程以及積體電路製造程序；光電業之揮發性有機物排放濃度範圍為1~18ppm，大於10ppm的製程為其他光電材料及元件製造程序。研究利用檢測報告之濃度
以及排氣量計算其排放量，結果顯示半導體業之揮發性有機物排放量範圍為0.0010~2.7189kg/hr，97.7%的排放量符合法規0.6kg/hr要求，大於0.6kg/hr的製程同樣為二極體製程以及積體電路製造程序；光電業之揮發性有機物排放量範圍為0.0005~0.9628kg/hr，99.2%符合法規0.4kg/hr要求，僅一筆數據(其他光電材料及元件製造程序)大於0.4kg/hr。在半導體和光電業中，常見防制設備為洗滌塔、吸附設備、沸石濃縮轉輪、焚化設備等，半導體業約30%為使用沸石濃縮轉輪，27%使用洗滌塔、16%使用吸附設備，而光電業之防制設備有61%使用洗滌塔，其他約3~7%分別使用
吸附設備、沸石濃縮轉輪、焚化設備等防制設備。半導體業防制設備的排放量與排放濃度為高度相關，乾基排氣量與排放量的相關性為弱相關或無相關。研究結果顯示：洗滌塔之排放濃度與排放量相關性係數為0.9616、吸附設備之排放濃度與排放量相關性係數為0.8809、沸石濃縮轉輪之排放濃度與排放量相關性係數為0.4906、沸石濃縮轉輪+焚化設備之排放濃度與排放量相關性係數為0.8457。光電產業洗滌塔之排放濃度與排放量相關性係數為0.6618、吸附設備之排放濃度與排放量相關性係數為0.7797、沸石濃縮轉輪之排放濃度與排放量相關性係數為0.4459、沸石濃縮轉輪+焚化設備之排放濃度與排放量相關性係數為0.817
5。於排放係數計算部分，半導體之二極體製程平均排放係數為23.106kg/m2，此為一家廠商兩筆數據之平均結果，但兩筆數據中，一筆為8.8988kg/m2，低於法規10.2kg/m2，另一筆數據為37.3135kg/m2，大於法規標準；積體電路製程平均排放係數為2.324kg/m2，略高出法規值2.24kg/m2；光電業之液晶顯示器製程排放係數結果為0.0003 kg/m2，低於法規0.18 kg/m2之標準，上述結果顯示製程操作及防制設備操控上仍有可再精進之空間。